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半导体领域

微电子行业在生产过程中，需要超纯水进行清洗，生产高品质纯化水是微电子行业一个重要生产要求。

制备超纯水流程中，因紫外线技术在超纯水高品质要求中不引入新的物质，而得到广泛应用。

有机物是超纯水系统中最难控制的污染，随着集成电路临界尺寸不断缩小挑战，对超纯水中TOC值的要求越来越高，因此，如何配置紫外线，如何确认配置中紫外线设备的有效紫外剂量，进而使TOC去除合格且水中溶解氧不升高，安力斯将为您解决这些运营困扰。
二次供水

二次供水是目前高层供水唯一的选择方式，现在我国城镇人口中使用二次供水的居民约占60%，二次供水安全问题是民生大计！紫外线消毒是一种物理消毒方法，是清洁、安全、环保的消毒技术，目前已经成为世界水处理消毒技术发展的必然趋势。

紫外线物理杀菌技术，可有效对抗“两虫”及其他抗氯性微生物，同时结合管网余氯可构成多级屏障消毒技术，较少化学药剂使用，降低消毒副产物的产生。同时本技术具有杀菌广谱性强、无需储存、运输，使用安全、运行费用低等优点。另外，鉴于我国2019年在武汉爆发的新型冠状病毒，国家疾控中心SARS研究团队的结果表明，紫外辐射可将SARS病毒的感染性完全消除。
工业园区

工业园区，尤其是化工和制药园区废水处理往往会遇到以下“卡脖子”难题：1、化工废水来源复杂，难生物降解，很难通过其它方法低成本去除；2、不明来源污水中潜藏毒性物质，影响污水处理厂运行。这些问题通过常规的污水处理工艺处理后出水COD等指标无法稳定达标排放，往往需要通过高级氧化技术进行预处理或深度处理。安力斯根据园区进水水质情况主要采用紫外氧化工艺中的光芬顿和过臭氧光催化工艺。

光芬顿，降解效率更高、药剂投加量少而运行成本低、产泥量大幅降低。过臭氧光催化工艺（UV/O3/H2O2）是最常见的一种后置高级氧化工艺，能有效降低COD，同时具有消毒的效果，且不会造成二次污染。
火电厂锅炉补给水

火力发电厂锅炉补给水系统主体工艺为反渗透膜处理，但因反渗透膜易被细菌微生物的快速滋生繁殖造成污堵，电厂传统化学剂杀菌方法，因微生物种类复杂及耐药性，仍会导致膜的压降很快上升，保安过滤器很快污堵。

通过采用水光学紫外技术，可实现100-400nm宽波谱的细菌及病毒杀菌，不仅破坏其DNA或RNA，同时破坏体内其自我修复的活化酶，达到彻底的广泛性杀菌。具体优势有：

1.紫外线杀菌后，上游就可以减少甚至不再用次氯酸钠来消毒，化学品使用量可以降低75%以上；2.紫外杀菌成本低廉，吨水只有几分钱，大幅降低了药剂费用；3.使用UV后，滤芯更换周期可以延长3-5倍；4.药剂减少后，也大幅减少了钢管、金属设备的化学腐蚀，节省了其他设备的成本。
制药废水

制药废水成分复杂、浓度和盐分高、色度和毒性大，往往含有种类繁多的有机污染物质，这些物质大多数都是难生降解的生化物质，可以在相当长的时间内存留于环境中，严重危害的人类健康。安力斯紫外氧化工艺去除医药和化学行业中有害的化学物质和活性物质是非常有优势的。可以根据实际要求提供不同的处理深度。可以对特定的目标物质选择性的去除，同时提高生物利用度。

紫外氧化对制药废水去除毒性和提高生物利用率的预处理是非常有优势的。紫外氧化常用于对高浓度的母液进行预处理，然后因为高盐度需要和其它工厂废水混合稀释后并引入生化池进一步处理。通过引入紫外氧化工艺对制药废水分类预处理去除毒性的方式，在投资成本、运行成本、处理效率方面都有明显优势。