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安力斯UV/O3/H2O2深度氧化技术原理:
UV/O3/H2O2是常见的一种后置高级氧化工艺,此方法利用UV发出的高强度高能量紫外线,激发H2O2及O3产生具有*氧化性的羟基自由基,羟基自由基可将难降解有机物质氧化,发生断链、开环等多种反应,能有效降低COD,同时具有消毒的效果,且不会造成二次污染,也不需要后续处理。
安力斯UV/O3/H2O2氧化系统闭环控制:
1.臭氧控制系统:臭氧在线浓度监测、水中臭氧浓度监测、尾气残余臭氧浓度监测系统
2.UV控制系统:根据臭氧、双氧水投加浓度,实时调节系统UV强度
3. H2O2控制系统:通过计量泵及流量调配系统实现对双氧水的精确投加,避免残余H2O2对出水COD的干扰。
安力斯UV/O3/H2O2氧化系统设计:
1.UV光催化模块
2. H2O2间及投加系统
3.臭氧发生及投加系统
4.高级氧化反应池
5.在线监测系统