光催化高级氧化介绍

光催化高级氧化介绍

MP UV-H2O2技术：中压紫外(MP UV) 消毒技术是基于中压紫外灯技术发展而来，中压紫外灯具有功率高(单支>1kW)、体积小、广谱性(主要波长范围在180-480nm之间)等特点，可促进H2O2分解产生羟基自由基，有效处理高浓度难降解废水。

技术原理：在紫外线激发下H2O2可产生具有很强氧化性的羟基自由基，可将有机污染物最终矿化为CO和H2O，其中间产物具有较多含氧官能团， 有效提高了废水的可生化性。

图1光催化氧化反应原理

光催化高级氧化 技术优势  

1） 处理高浓度废水和难降解废水， 有效降低COD及TOC指标。

2） 针对单一污染物的100%降解

3） 经处理后的废水生化性有效提高(最高可达100%)

4） 系统可将污染物有效降解或直接矿化，不产生二次污染

5） 集成化设备，物联网云控制技术，可通过手机APP/电脑终端24h监控设备运行状态并对设备进行操控

光催化高级氧化介绍的应用

1） 高浓度高难度化工废水（芳香烃废水 ，含苯废水，染料废水，有机氮废水，有机磷废水，有机硫废水 ，EDTA、MTBE、NDMA等废水

2） 制药废水（氨基酸废水，抗生素废水，甲醇、乙醇、甲酸类废水，糖类、蛋白质、脂类废水）

3） 垃圾渗滤液（腐殖酸废水，苯胺、烷基苯胺、邻硝基苯胺等废水，磷酸酯、邻苯二甲酸酯、酚类等废水）